關于硅片的污染 半導體器件生產中硅片須經嚴格清洗。微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質，包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴重影響少數載流子壽命和表面電導；堿金屬如鈉等，引起嚴重漏電；顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等，會導致各種缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化學清洗兩種。我司常年回收硅片、回收硅料。

“前幾年，我國光伏市場基本都是在海外;目前已經可以看到國內市場也大規模啟動，對多晶硅的需求毫無疑問會快速增長?！辟惖项檰柊雽w產業研究中心光電子咨詢事業部總經理常金龍說，“即便這些進口合同已經保證了國內接下來一年的需求量，在未來幾年仍然可以發揮作用?！?/p>

　　但就目前已經獲批的量來說，如果沒有后續的補救措施，接下來一年內的進口量仍將非?？捎^。

　　“靠58號文解決不了根本問題，‘補漏’從來就不是一個治本的辦法?！背＝瘕堉毖?，“我國光伏產業內最根本的問題存在于產業指導方向?！?/p>

　　這個說法記者已經不是第一次聽到。近年來，指出中國光伏產業“走得太快”的業內人士比比皆是，忽略基礎儲備和產品更新、盲目上產能已經讓國內企業嘗到了苦頭。